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芯片失效步驟及其失效難題分析

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芯片失效步驟及其失效難題分析

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芯片開封:去除IC封膠,同時(shí)保持芯片功能的完整無損,保持 die,bond pads,bond wires乃至lead-frame不受損傷,為下一步芯片失效分析實(shí)驗(yàn)做準(zhǔn)備。

SEM 掃描電鏡/EDX成分分析:包括材料結(jié)構(gòu)分析/缺陷觀察、元素組成常規(guī)微區(qū)分析、精確測(cè)量元器件尺寸等等。探針測(cè)試:以微探針快捷方便地獲取IC內(nèi)部電信號(hào)。

鐳射切割:以微激光束切斷線路或芯片上層特定區(qū)域。

EMMI偵測(cè):EMMI微光顯微鏡是一種效率極高的失效分錯(cuò)析工具,提供高靈敏度非破壞性的故障定位方式,可偵測(cè)和定位非常微弱的發(fā)光(可見光及近紅外光),由此捕捉各種元件缺陷或異常所產(chǎn)生的漏電流可見光。

OBIRCH應(yīng)用(鐳射光束誘發(fā)阻抗值變化測(cè)試):OBIRCH常用于芯片內(nèi)部高阻抗及低阻抗分析,線路漏電路徑分析。利用OBIRCH方法,可以有效地對(duì)電路中缺陷定位,如線條中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高阻區(qū)等,也能有效的檢測(cè)短路或漏電,是發(fā)光顯微技術(shù)的有力補(bǔ)充。

LG液晶熱點(diǎn)偵測(cè):利用液晶感測(cè)到IC漏電處分子排列重組,在顯微鏡下呈現(xiàn)出不同于其它區(qū)域的斑狀影像,找尋在實(shí)際分析中困擾設(shè)計(jì)人員的漏電區(qū)域(超過10mA之故障點(diǎn))。

定點(diǎn)/非定點(diǎn)芯片研磨:移除植于液晶驅(qū)動(dòng)芯片 Pad上的金凸塊, 保持Pad完好無損,以利后續(xù)分析或rebonding。

X-Ray 無損偵測(cè):檢測(cè)IC封裝中的各種缺陷如層剝離、爆裂、空洞以及打線的完整性,PCB制程中可能存在的缺陷如對(duì)齊不良或橋接,開路、短路或不正常連接的缺陷,封裝中的錫球完整性。

SAM (SAT)超聲波探傷:可對(duì)IC封裝內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行非破壞性檢測(cè), 有效檢出因水氣或熱能所造成的各種破壞如:o晶元面脫層,o錫球、晶元或填膠中的裂縫,o封裝材料內(nèi)部的氣孔,o各種孔洞如晶元接合面、錫球、填膠等處的孔洞。

關(guān)于芯片失效的難題

對(duì)于失效分析,應(yīng)用個(gè)工程師覺得這是最棘手的問題之一。因?yàn)樾酒栴}通常是在量產(chǎn)階段,甚至是出貨后才開始被真正意識(shí)到,此時(shí)可能僅有零零散散的幾個(gè)失效樣品,但這樣的比例足以讓品質(zhì)部追著研發(fā)工程師進(jìn)行一個(gè)詳盡的原因分析。

對(duì)于研發(fā)工程師,在排查完外圍電路、生產(chǎn)工藝制程可能造成的損傷后,更多的還需要原廠給予支持進(jìn)行剖片分析。

但是由于缺乏專業(yè)的分析設(shè)備,芯片內(nèi)部設(shè)計(jì)的保密性不可能讓工程師了解得太多,因此對(duì)于原廠給予出來的分析報(bào)告,工程師很多時(shí)候其實(shí)處于“被動(dòng)接受”的處境。






雖然無法了解芯片內(nèi)部的設(shè)計(jì),但其實(shí)我們可以了解芯片廠商相關(guān)失效分析手法,至少在提供給你的報(bào)告上,該有的失效分析是否是嚴(yán)瑾,數(shù)據(jù)是否可靠,你可以做出一定的判斷——芯片失效步驟及其失效難題分析

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